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        從專利申請量看半導體光刻技術哪家強:吾輩仍需努力

        CNMO

        【原創】 作者:王子琴

        2021-09-28 14:34

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        ? ? ???【CNMO新聞】在半導體制造工藝中,光刻工序是非常重要的工序,目前,荷蘭ASML的光刻設備在市場上占壓倒性優勢。CNMO了解到,據日本特許廳(專利廳)4月發布的申請動向調查“半導體光刻的前后處理技術”,不難發現日本在光刻設備上有著一定的優勢,半導體制造設備在世界上也保持著較高存在感。各個技術領域的申請數量(圖源日經中文網 全文同)?????? 半導體制造的前工序中,核心是光刻工序,根據以光刻設備燒制的電路圖切削基板、進行布線,完成半導體芯片制造。調查數據顯示,半導體光刻的前后處理技術領域的申請最多,光刻膠的剝離、光刻膠周邊部分的清除技術數量超1.6萬項。2006年-2018年申請者所屬國家和地區的變化? ? ???從2006年-2018年申請的專利來看,每年都是日本國籍的申請者占4成左右,數量最多。從累計數據來看,2006年-2018年申請的專利申請總數為4萬2646項申請,其中日本國籍的申請者申請了1萬8531項,占總數的43.5%,遠超7000多項的韓國和美國。半導體光刻的前后處理技術在主要國家和地區的專利申請情況? ? ? ?從地區看,2009年-2011年在日本進行的申請最多,隨后呈下降趨勢。2012年在美國進行的申請超過日本,之后美國持續登頂。從2006年-2018年累計數據來看,美國的申請為1萬678項,占整體的25.0%,其中32.1%來自日本的申請者。值得注意的是,在中國大陸的申請數量為6010項,其中大陸的申請者只有22.1%,未來,我國在這方面的技術還需加強。

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        半導體光刻膠晶圓

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